溅射靶材

触摸屏是我们现代生活中不可或缺的一部分：无论手机、平板、笔记本还是医疗和工业设备，任何需要便捷人机交互的场合都有触摸屏的应用。

触摸屏的基础原理在于，玻璃或聚合物基板薄膜上所含沉积的导电透明氧化物，手指的压力使得两个分离的导电薄膜挤压在一起产生电信号，从而启动所需的计算。氧化铟锡 (ITO) 薄膜可将触摸屏最需要的一些特性整合在单一薄层中，是导电透明氧化物中的主要作用部分。

薄膜沉积是通过物理气相沉积，特别是溅射工艺完成的。在高能粒子、等离子体或其他方法的帮助下，铟和氧化锡粒子被汽化并沉积在玻璃或聚合物上，形成仅几纳米厚的透明层。

这一工艺所使用的起始材料氧化铟锡是由单独的氧化铟和氧化锡组成的紧密复合材料。两种氧化物被烧结在一起形成溅射靶材，然后在溅射室中用作薄膜源。由于沉积方法会蒸发单个原子，因此只能使用高纯度原材料来沉积无缺陷的薄膜。

Keeling & Walker 开发了一系列基于化学和热氧化工艺的高纯度氧化锡，以满足客户的严格质量要求。 Keeling & Walker 独特的制造技术可生成具有定制 BET表面积的均匀超细颗粒，以改善靶材制造时的烧结性能，氧化锡纯度可达到 99.95 至 99.995% 。严格的内部质量控制和纯度分析确保尽可能高的均匀性，可达到单个微量元素量级。

由于其在AMC集团成员资格，Keeling & Walker 是唯一一家完全实现供应链向上整合的氧化锡制造商，还可以在内部采购高纯度锡金属，这使 Keeling & Walker 能够完全控制制造过程中的变量，确保所有原料参数及质量的高度统一，保障突发情况下的供应安全。